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簡單講述金相試樣拋光的技術(shù)要求

日期:2018-06-08 14:58:10 瀏覽次數(shù):

簡單講述金相試樣拋光的技術(shù)要求

   拋光操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到最大的拋光速率,以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層。同時也要使拋光損傷層不會影響最終觀察到的組織,即不會造成假組織。這兩個要求是矛盾的。前者要求使用較粗的磨料,以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層,但拋光損傷層也較深;后者要求使用最細的材料,使拋光損傷層較淺,但拋光速率低。解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。

  首先是粗拋,目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過也應(yīng)當(dāng)盡可能??;其次是精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到最小。 拋光時,試樣磨面與拋光盤應(yīng)平行并均勻地輕壓在拋光盤上,注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。

  同時還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動,以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會減弱拋光的磨痕作用,使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生現(xiàn)象;濕度太小時,由于摩擦生熱會使試樣升溫,潤滑作用減小,磨面失去光澤,甚至出現(xiàn)黑斑,輕合金則會拋傷表面。為了達到粗拋的目的,要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低,最好不要超過500r/min;拋光時間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時間長些,因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑,但黯淡無光,在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕,有待精拋消除。精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提,拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡,在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕,但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。 金相試樣拋光質(zhì)量的好壞嚴重影響試樣的組織結(jié)構(gòu),已逐步引起有關(guān)專家的重視。

  近年來,外在拋光機的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新機型、新一代的拋光設(shè)備,正由原來的手動操作發(fā)展成為各種各樣的半自動及全自動拋光機。

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